生產半導體會產生有害氣體嗎？答案是肯定的，半導體工廠在生產半導體的過程中是會使用一些化學品的，由于揮發、滲漏、密封不嚴、設備振動等情況存在，不可避免的會有有毒有害氣體產生，為了現場作業人員的安全和職業健康，需要在半導體生產車間的抽風口及存在有毒有害氣體的設備及管道附近安裝使用半導體有毒有害氣體檢測儀，以免半導體車間環境中有害氣體濃度過高危及人身安全。 半導體工廠蝕刻和清洗晶圓會產生大量酸性氣體。此外，由于半導體制造中使用大量的光刻膠溶液和顯影液，這些溶液主要是有機物質，所以產生大量的有機溶劑，包括二甲苯、丙酮、苯、四氯化碳、四氯化碳F2等。將用于蝕刻、清洗和薄膜生長。

半導體制造工業中使用的特殊氣體一般是根據它們的使用特性，如NH3、氨和O2等。用于沉積過程；H2氫常用于光刻等。；常用的氯化氫有HCL、Cl2氯氣、F2氟氣等。蝕刻期間；氧氣、H2、氫氣等。常用于熱處理；常用的鹵化物有氯化氫HCI、氯氣Cl2、氟化氫HF、溴化氫HBr、氧氣O2等。用于腔室清洗，離子注入法注入PH 3磷化氫和AsH3胂等。作為磷源和砷源。

半導體生產中使用或產生的氣體可分為五類：可燃氣體、有毒氣體、腐蝕性氣體、惰性氣體和氧化性氣體。
1、可燃氣體
可燃氣體一般指能自燃的可燃氣體。當環境溫度達到一定程度時，PH3等氣體會自燃。可燃氣體有一定的著火、燃燒和爆炸范圍，即上限和下限。范圍越大，爆炸和燃燒的危險性越高。可燃氣體有H2、NH3、PH3等。
2、有毒氣體
有毒氣體是指半導體制造業使用的許多氣體對人體有害有毒。PH3、NH3、HCL、CL2、AsH3、CO等氣體的允許濃度。在工作環境中非常小，因此在儲存、運輸和使用過程中需要特別小心。一般來說，應該采取具體的技術措施來控制這些氣體的使用；
3、腐蝕性氣體
腐蝕性氣體通常具有很強的毒性。腐蝕性氣體一般在干燥狀態下不易腐蝕金屬，但在水環境中表現出強烈的腐蝕性，如HCl、HF等。
4、惰性氣體
隋氣本身一般不會直接危害人體。在氣體輸送的過程中，安全要求不像以下其他氣體那樣嚴格。惰性氣體具有窒息特性，在開放空間內少量泄漏不會使人窒息而引發工傷事故；
5、氧化性氣體
氧化性氣體具有強氧化性，一般還具有其他特性，如毒性或腐蝕性。屬于這一類別的氣體包括ClF3、Cl2、NF3等。

有鑒于半導體生產過程中的有害氣體的危害性，除了需要在半導體生產工廠配置正負壓測漏的氣體輸送管路和排氣抽風系統之外，還應在現場安裝使用氣體泄漏濃度檢測報警儀器。以采用進口高精度氣體傳感器的ERUN-PG51S6固定在線式六合一氣體檢測報警儀為例，可以同時檢測并顯示氨氣NH3、一氧化碳CO、氧氣O2、氯氣CL2、氯化氫HCL、磷化氫PH3、氫氣H2等氣體的濃度值，超標聲光報警，并聯鎖自動控制排氣風機的啟停，測量數據結果可通過分線制4-20 mA模擬信號量或總線制RS 485（Modbus RTU）數字量信號以及無線模式傳輸，通過ERUN-PG36E氣體報警控制器在值班室實時顯示有害氣體的濃度值，并相應的觸發報警動作。 半導體車間氣體檢測報警儀技術參數：
產品型號：ERUN-PG51S6
檢測氣體：氨氣NH3、一氧化碳CO、氧氣O2、氯氣CL2、氯化氫HCL、磷化氫PH3、氫氣H2等
量程范圍：0～1、10、100、1000、5000、50000ppm、100%LEL、20%、50%、100%Vol可選，其他量程可訂制
分 辨 率：0.001ppm（0-10ppm高精度）/0.01ppm（0～10 ppm）；0.01ppm（0～100 ppm），0.1ppm（0～1000 ppm），1ppm（0～5000 ppm以上）； 0.1%LEL；0.01%、0.001%Vol
方法原理：電化學、催化燃燒、紅外、半導體、PID光離子等可選
精度誤差：≤±2%F.S.（更高精度可訂制）
顯示方式：報警器2.5寸彩屏現場顯示濃度值；控制器主機9寸彩屏值班室顯示濃度值
報警方式：現場聲光報警，值班室聲光報警
數據傳輸：4-20mA、RS485，可選無線傳輸
防護功能：IP66級防水防塵
防爆功能：隔爆型，Ex d ⅡC T6 Gb級防爆
 
以上就是關于生產半導體會產生有害氣體嗎的相關介紹，在半導體車間所產生的有害氣體其實主要來自于生產工藝過程中所使用的化學品，在其發生揮發、滲漏甚至泄漏時，就會在半導體車間內積聚大量的有害氣體，如一氧化碳CO、氯氣CL2、磷化氫PH3、氫氣H2、氨氣NH3、氯化氫HCL等，而將半導體有毒有害氣體檢測儀安裝在有可能會發生泄漏的設備或管道附近，就能夠連續實時在線監測半導體車間空氣中的有害氣體的濃度值了，對于半導體工藝的安全高效生產也具有預防和積極促進作用。